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日本傾斜角刻蝕

簡要描述:日本傾斜角刻蝕代表了直接置片等離子刻蝕機(jī)家族,它結(jié)合了RIE的平行板電極設(shè)計(jì)和直接置片的成本效益設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn)。Etchlab200的特征是簡單和快速的樣品加載,從零件到直徑為200mm或300mm的晶片直接加載到電極或載片器上。靈活性、模塊性和占地面積小是Etchlab200的設(shè)計(jì)特點(diǎn)。位于頂部電極和反應(yīng)腔體的診斷窗口可以方便地容納SENTECH激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng)。

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間:2024-07-10
  • 訪  問  量:1137

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌應(yīng)用領(lǐng)域環(huán)保,化工,電子

日本傾斜角刻蝕介紹:

低成本效益高:

RIE等離子蝕刻機(jī)Etchlab200結(jié)合平行板等離子體源設(shè)計(jì)與直接置片。

升級(jí)擴(kuò)展性:

根據(jù)其模塊化設(shè)計(jì),等離子蝕刻機(jī)Etchlab200可升級(jí)為更大的真空泵組,預(yù)真空室和更多的氣路。

SENTECH控制軟件:

該等離子刻蝕機(jī)配備了用戶友好的強(qiáng)大軟件,具有模擬圖形用戶界面,參數(shù)窗口,工藝編輯窗口,數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

日本傾斜角刻蝕代表了直接置片等離子刻蝕機(jī)家族,它結(jié)合了RIE的平行板電極設(shè)計(jì)和直接置片的成本效益設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn)。Etchlab200的特征是簡單和快速的樣品加載,從零件到直徑為200mm或300mm的晶片直接加載到電極或載片器上。靈活性、模塊性和占地面積小是Etchlab200的設(shè)計(jì)特點(diǎn)。位于頂部電極和反應(yīng)腔體的診斷窗口可以方便地容納SENTECH激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng)。橢偏儀端口可用于SENTECH原位橢偏儀進(jìn)行原位監(jiān)測。

Etchlab200等離子蝕刻機(jī)可以配置成用于刻蝕直接加載的材料,包括但不限于硅和硅化合物,化合物半導(dǎo)體,介質(zhì)和金屬。

Etchlab200通過先進(jìn)的SENTECH控制軟件操作,使用遠(yuǎn)程現(xiàn)場總線技術(shù)和用戶友好的通用用戶界面。



 

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